Intel展示未来工艺制程技术：目标3nm

9月19日消息 除了发布了最新的10nm工艺制程的参数以及Intel其他工艺制程的技术参数之外，Intel还在今天的尖端发布会上放出了未来的技术研究路线图，在路线图之中，Intel表明当前未来的目标将会是3nm，而现在全新的10nm以及7nm基本处于研究完毕的状态。
在Intel的线程路线图中，5nm工艺制程以及3nm工艺制程处于蓝色的前沿研究阶段，而10nm和7nm则是研究基本完成的状态，至于更前面的14nm工艺制程则是处于已投产的状态。
为了应对未来更低工艺制程带来的严苛挑战，Intel简单介绍了未来的八项前沿研究技术，包含纳米线晶体管、III-V族晶体管，3D-堆叠、密集存储空间、密集互联、EUV图案成形、神经元计算以及自旋电子学等前沿尖端领域。而现在由消息称Intel或许在21世纪20年代推出全新的CPU架构，或许到时候就可以应用这些最新的科技技术。